• 浙江半導體清洗用純水設備

浙江半導體清洗用純水設備

產品報價 面議
  • 產品品牌:ALY
  • 所屬類別:反滲透
  • 產品單位:
  • 產品型號:0.25T/H-100T/H
  • 產品數量:100
  • 發布時間:2019.12.20
企業名稱:上海奧力原純水設備有限公司   誠信企業 聯系人:胡晶晶 手機:13166113665
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產品詳情
【浙江半導體清洗用純水設備】半導體清洗超純水設備水質標準

半導體芯片清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

半導體清洗純水設備制備工藝

1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥16MΩ.CM)(最新工藝)

3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)

半導體清洗純水設備應用場合

電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

晶體管生產中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制

集成電路生產中高純水清洗硅片

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

高品質顯像管、螢光粉生產

半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

實驗室和中試車間

汽車、家電表面拋光處理

光電產品、其他高科技精微產品

信息來源:浙江半導體清洗用純水設備

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